По информации корейского издания ZDNet Korea, компания SK Hynix планирует представить свою первую машину для литографии с высоким содержанием NA EUV в 2026 году. Это заявление было сделано представителями компании на техническом совещании, прошедшем 12 числа этого месяца.
Как сообщил инженер SK Hynix, компания недавно сформировала команду, занимающуюся исследованиями и разработками в области литографии с высоким содержанием NA EUV. Целью этой команды является внедрение технологии EUV для производства современного DRAM-памяти. Об этом пишет IT House.
Среди крупных производителей передовых полупроводниковых технологий, Intel уже приобрела первую в мире коммерческую машину EUV с высоким содержанием NA, и её вторая машина с аналогичной технологией также приближается к научно-исследовательскому центру в Орегоне.
Ожидается, что первая машина для литографии с высоким содержанием NA EUV будет поставлена TSMC и Samsung Electronics в рамках их исследовательских и опытных проектов. Планируется, что машины будут поставлены TSMC в 2024 году и Samsung Electronics в период с четвертого квартала 2024 года по первый квартал 2025 года.
